ELLIP-ER-III
ELLIP-ER-III 型产品是一款固定波长手动可变入射角椭圆偏振仪，广泛适用于大学教学和科研及太阳能领域，可用于研究金属、非晶体、太阳能材料 、非线性材料等。是一款高性价比、高集成、高稳定及操作简便易用的普及型纳米级薄膜厚测试分析仪器。
主要特点
WINDOWS友好操作界面
实测光学常数种类：复折射率、复介电函数、吸收系数、反射率。
主要用途
1.各种功能材料的光学常数测量和光谱学特性分析；
2.测量薄膜材料的折射率和厚度；测量对象包括：金属、半导体、超导体、绝缘体、非晶体、超晶格、磁性材料、光电材料、非线性材料；测量光学常数：复折射率的实虚部、复介电常数的实虚部、吸收系数a、反射率R.
主要技术参数
光源：650nm（半导体激光器）/ 632.8nm（氦氖激光器）。
入射角范围：20-90度（手动每5度间隔，精度0.05度）
样品台：约?100 mm （可配三维样品台）
样品方位调整：Z轴高度调节：20mm;
二维俯仰调节：±4°
测量模式：反射
测量方式：傅立叶变换，自动完成信号测量
膜厚范围：透明薄膜：1-4000nm，纳米级为佳；吸收薄膜则与材料性质相关；
膜厚精度：±0.5nm （薄膜厚度在10-100nm时）
折射率范围：1.1-10
偏振器工作方式：自动旋转，无需读数
系统定标方式：自洽、绝对定标。
电脑连接方式：PCI
