ELLIP-ER-II

多角度单波长椭圆偏振仪

ELLIP-ER-Ⅱ 型产品是一款固定波长自动可变入射角椭圆偏振仪,仪器主体采用高强度钢铝架构,底座采用立体式圆盘设计,使用高精度涡轮蜗杆承载系统加强入射角控制精度,提高仪器机械强度及稳定性,可通过电脑控制自动改变m入射角同时与光谱测量相结合。仪器状态调整、参数设置、数据采集一直到数据处理,均通过计算机自动完成,方便用户使用。广泛适用于大学教学和工业生产领域,可用于研究金属、非晶体、太阳能材料 、非线性材料等。是一款高性价比、高集成、高稳定及操作简便易用的普及型纳米级薄膜厚测试分析仪器。

主要用途
1.各种功能材料的光学常数测量和光谱学特性分析;
2.测量薄膜材料的折射率和厚度; 测量对象包括:金属、半导体、超导体、绝缘体、非晶体、超晶格、磁性材料、光电材料、非线性材料;测量光学常数:复折射率的实虚部、复介电常数的实虚部、吸收系数a、反射率R.

主要特点
WINDOWS 友好操作界面
电脑控制自动改变入射角,可提高入射角精度,无需手动改变。
实测光学常数种类:复折射率、复介电函数、吸收系数、反射率。

主要技术参数
光源:650nm(半导体激光器)/ 632.8nm(氦氖激光器)。
入射角范围:20-90度(自动)
度盘刻度:每格1度
入射角控制精度:0.001° /脉冲
转角系统:涡轮蜗杆系统
样品台:? 80 mm;二维俯仰调节:±4°;平移调节:13mm
样品装载方式:自动吸附式
测量模式:反射
测量方式:傅立叶变换,自动完成信号测量
膜厚范围:透明薄膜:1-4000nm,纳米级为佳;吸收薄膜则与材料性质相关;
膜厚精度:±0.5nm (薄膜厚度在10-100nm时)
折射率范围:1.1-10
偏振器工作方式:自动旋转,无需读数
系统定标方式:自洽、绝对定标。
电脑连接方式:PCI